دستگاه پوشش PVD یک ابزار صنعتی پیشرفته است که برای اعمال پوشش های لایه نازک بر روی لایه های مختلف از طریق فناوری رسوب بخار فیزیکی طراحی شده است. PVD یک فرآیند مبتنی بر خلاء است که شامل تبخیر یک ماده جامد و متراکم کردن آن بر روی سطح هدف است که منجر به یک پوشش یکنواخت، بادوام و با کارایی بالا می شود. این روش به دلیل توانایی آن در افزایش خواص سطحی مانند سختی، مقاومت در برابر سایش و محافظت در برابر خوردگی به طور گسترده در صنایعی مانند الکترونیک، خودرو، هوافضا و تجهیزات پزشکی استفاده می شود.

این دستگاه معمولاً از یک محفظه خلاء، عناصر گرمایشی، منبع مواد هدف و سیستم‌های کنترل پیچیده تشکیل شده است. در حین کار، محیط خلاء از آلودگی جلوگیری می کند و از خلوص و کیفیت فیلم ته نشین شده اطمینان حاصل می کند. تکنیک های رایج PVD شامل کندوپاش و تبخیر است که هر کدام برای کاربردهای خاص مناسب هستند. به عنوان مثال، کندوپاش برای ایجاد پوشش های دقیق بر روی نیمه هادی ها ایده آل است، در حالی که تبخیر اغلب برای پرداخت های نوری و تزئینی استفاده می شود.