دستگاه پوشش‌دهی PVD یک دستگاه صنعتی پیشرفته است که برای اعمال لایه‌های نازک مواد بر روی زیرلایه‌های مختلف از طریق فرآیندهای رسوب‌گذاری فیزیکی بخار استفاده می‌شود. تکنیک‌های کلیدی شامل تبخیر، پاشش و رسوب‌گذاری قوس الکتریکی است که همگی در یک محیط خلاء بالا انجام می‌شوند تا از خلوص و یکنواختی اطمینان حاصل شود.

عملکرد دستگاه پوشش‌دهی PVD شامل چندین مرحله حیاتی است. در ابتدا، زیرلایه تحت تمیز کردن کامل قرار می‌گیرد تا آلاینده‌ها حذف شوند. سپس در داخل محفظه خلاء قرار می‌گیرد که برای حذف هوا و رطوبت تخلیه می‌شود. متعاقباً، ماده هدف - اغلب فلزاتی مانند تیتانیوم، کروم یا آلومینیوم - با استفاده از انرژی حرارتی یا پلاسما تبخیر می‌شود. ذرات تبخیر شده از طریق خلاء حرکت می‌کنند و روی سطح زیرلایه متراکم می‌شوند و یک پوشش بادوام و با عملکرد بالا را تشکیل می‌دهند.