روکش ساعت استیل ضدزنگ با کارایی بالا دستگاه پوششی خلاء PVD برای رنگ سیاه

اصل کار: رسوب پاشش یک روش رسوب بخار فیزیکی (PVD) رسوب فیلم نازک با لکه دار است. این شامل بیرون کشیدن مواد از "هدف" است که منبعی بر روی "بستر" مانند ویفر سیلیکون است. بازگرداندن مجدد انتشار مجدد مواد سپرده شده در طی فرایند رسوب توسط بمباران یونی یا اتمی است. اتمهای پخش شده از هدف ، توزیع انرژی گسترده ای دارند ، به طور معمول تا ده ها ولت (100000 K). یونهای پراکنده (به طور معمول تنها بخش کوچکی از ذرات بیرون زده یونیزه می شوند - به ترتیب 1 درصد) می توانند از نظر هدفمند در خطوط مستقیم پرواز کرده و به صورت انرژی بر روی بسترها یا محفظه خلاء تأثیر بگذارند. از طرف دیگر ، در فشارهای بالاتر گاز ، یون ها با اتم های گازی که به عنوان تعدیل کننده عمل می کنند برخورد می کنند و به صورت دیفرانسیل حرکت می کنند ، به زیر لایه ها یا دیواره محفظه خلاء می رسند و پس از طی کردن یک پیاده روی تصادفی به چگالش می رسند. طیف وسیعی از تأثیر بالستیک با انرژی بالا تا حرکت حرارتی با انرژی کم با تغییر فشار گاز پس زمینه در دسترس است. گاز لکه دار اغلب یک گاز بی اثر مانند آرگون است. برای انتقال مؤثر حرکت ، وزن اتمی گاز پاشنده باید نزدیک به وزن اتمی هدف باشد ، بنابراین برای پاشش عناصر نوری از نئون ترجیح داده می شود ، در حالی که برای عناصر سنگین کریپتون یا زنون استفاده می شود. از گازهای واکنشی نیز می توان برای پاشیدن ترکیبات استفاده کرد. این ترکیب بسته به پارامترهای فرآیند ، می تواند در سطح هدف ، در پرواز یا روی بستر تشکیل شود. در دسترس بودن پارامترهای زیادی که رسوب پاشش را کنترل می کنند ، آن را به یک فرآیند پیچیده تبدیل می کنند ، اما همچنین به متخصصان اجازه می دهد تا میزان زیادی از کنترل روی رشد و ریزساختار فیلم را کنترل کنند.

ویژگی ها: آسان برای کنترل ضخامت و رنگ فیلم ، ذرات فیلم خوب و صاف

کاربرد: محصولات 3C ، ساعت ، جواهرات ، و غیره

فرآیند سبز: بدون گاز مضر ، بدون فاضلاب ، بدون مواد زاید.